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專注于分散、乳化、均質領域

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當前位置:首頁產品中心膠體磨高剪切膠體磨GM2000/4中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨

中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨
產品簡介:

中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎,精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等。

產品型號:GM2000/4

更新時間:2025-07-29

廠商性質:生產廠家

訪 問 量 :186

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產品介紹

中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨,頭孢噻呋鹽酸鹽膠體磨 ; 鹽酸頭孢替呋膠體磨 ; 頭孢替呋鹽酸鹽膠體磨比普通的膠體磨的速度達到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高轉速可以達到14000RPM。

鹽酸 頭孢噻呋膠體磨為動物的第三代頭孢菌素,主要用于治療敏感菌所致的豬、牛、馬、犬及一日齡雛雞感染性疾病。

主要的  將稱取0.3kg的硬脂酸鎂,9.2kg的油酸乙酯,9.2kg大豆油,少許的維生素E油和羥苯乙酯,進行混合成2000ml,進行試機測試,試機后,觀察如下:

  •  

觀察細度,做抽針試驗(通過獸用9號針頭)。

觀察其流動

觀察其分層及混懸的情況。

外觀及形狀是否符合質量標準。

按照其質量標準進行檢測。

鹽酸 頭孢噻呋膠體磨研磨效果  
影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點
 
1. 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)
2. 膠體磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)
3. 物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)
4. 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

 

技術及價格請來電:劉  ,公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導!


 
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) =          v  速率 (m/s)  
                            g 定-轉子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  
 
速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60
 
鹽酸 頭孢噻呋膠體磨的型號參數(shù)研磨分散設備是SGN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。

 

我們將多級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將多級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

SGN中試型鹽酸頭孢噻呋膠體磨特點:

線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。

定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

?的基本原理:
  膠體磨在電動機的高速轉動下物料從進口處直接進入高剪切破碎區(qū),通過一種特殊粉碎裝置,將流體中的一些大粉團、粘塊、團塊等大小顆粒迅速破碎,然后吸 入剪切粉碎區(qū),在十分狹窄的工作過道內由于轉子刀片與定子刀片相對高速切割從而產生強烈摩擦及研磨破碎等。在機械運動和離心力的作用下,將已粉碎細化的物 料重新壓入精磨區(qū)進行研磨破碎,精磨區(qū)分三級,越向外延伸一級磨片精度越高,齒距越小,線速度越長,物料越磨越細,同時流體逐步向徑向作曲線延伸。每到一 級流體的方向速度瞬間發(fā)生變化,并且受到每分鐘上千萬次的高速剪切、強烈摩擦、擠壓研磨、顆粒粉碎等,在經過三個精磨區(qū)的上千萬次的高速剪切、研磨粉碎之 后,從而產生液料分子鏈斷裂、顆粒粉碎、液粒撕破等功效使物料充分達到分散、粉碎、乳化、均質、細化的目的。液料的zui小細度可達0.5um。


  膠體磨是流體或半流體物料通過高速相對連動的定齒與動齒之間,使物料受到強大的剪切力,磨擦力及高頻振動等作用,有效地被粉碎、乳化、均質、混合,從而獲得滿意的精細加工的產品。

 

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